|
Twitter
 		|
Facebook
 		|
Google+
 		|
VKontakte
 		|
LinkedIn
 		|
Viadeo
|
English
|
Français
|
Español
|
العربية
|
المجلة الدولية للإبداع والدراسات التطبيقية
ZDB-ID: 2703985-7     OCLC: 828807274     CODEN: IJIABO     ISSN: 2028-9324
الثلاثاء 23 أبريل/ نيسان 2024
 
 
  لا يمكنكم حاليا إرسال البحوث قصد النشر  
 
 
 

Marcel Sitor DIOUF


Personal

Name Marcel Sitor DIOUF
Affiliation Laboratoire des Semi-conducteurs et d’Energie Solaire, Faculté des Sciences et Techniques, Université Cheikh Anta DIOP, Dakar, Senegal

Documents: 2

Document title Date Issue
Optimum base thickness determination technique as applied to n/p/p+ silicon solar cell under short wavelengths monochromatic illumination
[ Technique de détermination de l'épaisseur optimum de la base appliquée à une photopile n+ /p / p + au silicium sous éclairement monochromatique de courtes longueurs d'onde ]
Author(s): Meimouna MINT SIDI DEDE, Mor Ndiaye, Sega GUEYE, Mamadou Lamine BA, Ibrahima Diatta, Marcel Sitor DIOUF, El Hadj SOW, Amadou Mamour BA, Massamba DIOP, and Grégoire SISSOKO
Show abstract   Full Text
2020 29 (3) , pp. 576-586
Surface recombination velocity concept as applied to determinate silicon solar cell base optimum thickness with doping level effect
[ Concept de la vitesse de recombinaison surfacique appliqué à la détermination de l’épaisseur optimum de la base de la photopile au silicium avec effet du taux de dopage ]
Author(s): Masse Samba DIOP, Hamet Yoro BA, Ibrahima Diatta, Youssou TRAORE, Marcel Sitor DIOUF, El Hadji SOW, Oulymata MBALLO, and Grégoire SISSOKO
Show abstract   Full Text
2019 27 (3) , pp. 809-817


تقديم

مستجدات

إرسال المقالات

للتحميل

الأرشيف

البحث في الموقع

للاتصال

  • إتصل بنا
  • الرسالة الدورية:

تابعنا
المجلة الدولية للإبداع والدراسات التطبيقية
http://www.ijias.issr-journals.org/ :الموقع الإلكتروني
office@issr-journals.org :البريد الإلكتروني
PageRank

Privacy-Policy | جميع الحقوق محفوظة © 2024 -  الفضاء الإبداعي للبحث العلمي
تخضع جميع المقالات المنشورة بالمجلة لرخصة المشاع الإبداعي نسب المصنف 3.0 الأصلية الترخيص Creative Commons License